蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡Crossbeam 500場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡Crossbeam 500場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡為您進(jìn)行要求苛刻的材料表征并選擇適合您的樣品尺寸——標(biāo)準(zhǔn)尺寸或大尺寸。Gemini 2電子光學(xué)系統(tǒng)即使在低電壓和高束流條件下亦可提供高分辨率。如需在高束流條件下獲得高分辨率圖像以及進(jìn)行快速分析,這無(wú)疑是您的理想之選。
使您的掃描電鏡具備強(qiáng)大的洞察力
通過(guò)樣品臺(tái)減速技術(shù)(Tandem decel,新型蔡司Gemini電子光學(xué)系統(tǒng)的一項(xiàng)功能)實(shí)現(xiàn)低電壓電子束分辨率提升高達(dá)30%。
使用Gemini電子光學(xué)系統(tǒng),您可以從高分辨率掃描電鏡(SEM)圖像中獲取真實(shí)的樣品信息。
在進(jìn)行高度靈敏表面二維成像或三維斷層成像時(shí),您可以信賴蔡司雙束電鏡Crossbeam系列的性能。
即使在使用非常低的加速電壓時(shí)也可獲得高分辨率、高對(duì)比度和高信噪比的清晰圖像。
借助一系列的探測(cè)器實(shí)現(xiàn)樣品的全方位表征;使用獨(dú)特的Inlens EsB探測(cè)器獲得更純的材料成分襯度。
使用低電壓表征不導(dǎo)電樣品,消除荷電效應(yīng)的影響。
提升您的聚焦離子束(FIB)樣品制備效率
得益于智能聚焦離子束(FIB)的掃描策略,移除材料相比以往實(shí)驗(yàn)快40%以上。
鎵離子FIB鏡筒Ion-sculptor采用了全新的加工方式:盡可能減少樣品損傷,提升樣品質(zhì)量,從而加快實(shí)驗(yàn)進(jìn)程。
使用高達(dá)100 nA的離子束束流,高效而**地處理樣品,并保持高分辨率。
制備TEM樣品時(shí),請(qǐng)使用鎵離子FIB鏡筒Ion-sculptor的低電壓功能:獲得超薄樣品的同時(shí),盡可能降低非晶化損傷。